실리카 모래 정제 공정과 TFT-LCD 기판 유리용 핵심 장비: 고정밀 디스플레이 구현을 위한 초석 기술

요약: 고해상도 및 대형 TFT-LCD 디스플레이의 인기로 인해 핵심 캐리어인 기판 유리의 평탄도, 순도 및 열 안정성에 대한 요구 사항이 거의 까다로워지고 있습니다. 이 백서에서는 TFT-LCD 기판 유리 제조에 사용되는 고순도 석영 모래 (일반 지수 : SiO₂ ≥ 99.7 %, Fe₂O₃ ≤ 0.008 %)의 특수 정제 공정 및 핵심 장비를 분석하고 ElevateSilica는 목표 심층 철 제거 기술과 무공해 장비 시스템을 통해 업계에 안정적이고 효율적인 전체 솔루션을 제공하고 고객의 돌파구를 지원합니다! 엘리베이트실리카는 표적 심층 철 제거 기술과 무공해 장비 시스템으로 업계에 안정적이고 효율적인 전반적인 솔루션을 제공하여 고객이 기본 유리 원료의 기술적 병목 현상을 돌파 할 수 있도록 지원합니다.

엄격한 요구 사항: TFT-LCD 기판 유리용 규사가 특별한 이유는 무엇일까요?

TFT-LCD 기판 유리는 박막 트랜지스터 어레이의 캐리어이며 그 품질은 디스플레이 화면의 선명도, 밝기 및 균일 성을 직접 결정합니다. 주성분(약 60~70%)인 석영 모래는 다음과 같은 극한의 요구 사항을 충족해야 합니다:

1. 매우 높은 순도(SiO₂ ≥ 99.7%): 미량의 불순물은 유리의 열팽창 계수와 점도를 변화시켜 고온 처리 중에 잔물결, 기포 또는 침전된 결정을 생성하여 패널 수율을 떨어뜨릴 수 있습니다.

2. 극도로 낮은 철분 함량(Fe₂O₃ ≤ 0.008%): 철 이온은 가시광선을 크게 흡수하여 유리를 황변 및 녹색으로 만들어 백라이트 투과율과 색 재현에 심각한 영향을 미쳐 디스플레이가 칙칙하고 색감이 떨어지는 결과를 초래합니다.

3. 엄격한 입자 크기 분포: 입자 크기는 균일하고 안정적이어야 하며, 너무 거칠거나 너무 미세하면 화합물의 균일한 용융과 유리 액체의 균질화에 영향을 미쳐 기판 유리의 미세한 평탄도에 영향을 미칩니다.

4. 뛰어난 화학적 안정성: 원료 자체는 보관 및 운송 중 수분 용해나 반응을 피하기 위해 안정적이어야 합니다.

핵심 정제 공정: 원료에서 고순도 실리카 모래까지

위의 요구 사항을 충족하기 위해 물리적 전처리와 심층 화학 정제를 기반으로 한 결합된 공정이 가장 효율적이고 신뢰할 수 있는 경로이며, ElevateSilica의 공정 흐름은 다음과 같습니다:

1단계: 정제된 물리적 전처리(사전 농축 및 오염 제거)

• 목표: 해리 크기로 분쇄하고 유리 및 자성 불순물을 80% 이상 제거합니다.

• 프로세스 흐름:

  1. 다단계 파쇄 및 분쇄: "조 + 콘 + 고압 롤러 밀"의 조합을 사용하여 에너지 효율적인 점진적 파쇄를 달성합니다. 세라믹 라이너와고알루미늄 지르코늄 볼을 주요 분쇄 매체로 사용하여 소스에서 기계적 철의 유입을 제거합니다.

  2. 스크러빙 및 탈리: 석영 입자 표면의 철과 점토 미네랄의 박막을 스크러버에서 강하게 문지르고 -20μm의 미세 슬러지를 하이드로 사이클론으로 제거하여 알루미늄과 일부 철을 효과적으로 감소시킵니다.

  3. 고구배 자기 분리: 핵심 물리적 철 제거 공정. 최대 1.2T 이상의 배경장 강도를 가진 고 구배 자기 분리기를 채택하여 적철광, 리모나이트, 흑운모 등과 같은 약한 자성의 철 함유 광물을 효율적으로 포집 및 제거하고 초기에 Fe₂O₃를 0.015 % 미만으로 줄일 수 있습니다.

2단계: 심층 화학 정화('완고한 철' 극복)

• 목표: 미세 내포물 형태로 박혀 있거나 석영 표면에 단단히 흡착된 "완고한 철"을 제거하여 Fe₂O₃를 0.008% 미 만으로 꾸준히 감소시킵니다.

• 핵심 프로세스: 온화하고 효율적인 산 침출

  • 핵심 기술: 특정 온도, 농도 및 반응 시간에서 교반을 통해 특수하게 제조된 산 혼합물(일반적으로 염산-옥살산 시스템)로 침출합니다.

  • 엘리베이트실리카의 장점:

    • 제형 최적화: 옥살산과 같은 유기산은 철과 강한 결합력을 가지고 있어 철 함유 광물의 구조를 효과적으로 파괴하고 용해하며 석영 본체에 대한 부식성이 낮고 수율이 높습니다.

    • 공정 향상 : 초음파 지원을 사용하여 "캐비테이션 효과"를 생성하여 미세 균열 및 내포물에 대한 산의 침투를 가속화하여 철 제거 효율을 크게 향상시킬 수 있습니다.

    • 자동 제어: 전체 공정은 배치 안정성을 보장하기 위해 PLC 시스템에 의해 매개변수가 정밀하게 제어되는 부식 방지 반응기에서 수행됩니다.

3단계: 정제 및 후처리(순도 고정)

• 목표: 산과 용해된 제품을 철저히 제거하여 깨끗하고 건조한 완제품을 얻습니다.

• 공정 흐름:

  1. 고순도 물로 역류 세척: 전도도가 매우 낮은 순수한 물을 사용하여 폐수가 중성이 되고 전도도가 기준을 충족할 때까지 다단계 역류 세척을 수행하여 잔류 산근과 금속 이온이 없는지 확인합니다.

  2. 정밀 탈수: 고효율 탈수를 위해 고속 원심분리기 또는 필터 프레스를 사용하여 수분 함량이 낮은 필터 케이크를 형성합니다.

  3. 무공해 건조 및 포장 : 특수 건조 장비에서 깨끗한 열풍으로 건조하고 밀폐 된 환경에서 방습 포장하여 2 차 오염을 방지합니다.

셋째, 핵심 장비 시스템: 공정 착륙 보장

공정의 실현은 신뢰할 수 있는 장비에 달려 있습니다. 다음은 TFT-LCD 실리카 모래 정화 라인을 위해 ElevateSilica가 개발 한 핵심 장비입니다:

1. 무공해 분쇄 및 연삭 시스템:

   • 장비: 세라믹 라이너 콘 크러셔, 지르코니아 미디어 교반기 분쇄기.

   • 가치: "공정에 철 오염을 도입"하는 업계 문제를 근본적으로 해결했습니다.

2. 심층 철 제거 및 자기 분리 시스템:

   • 장비: 수직 링 고구배 자기 분리기.

   • 가치: 높은 전계 강도와 고구배 자성 매체는 약한 자성 철광물의 포집률이 매우 높아 물리적 철 제거 효율을 보장합니다.

3. 자동 산세 및 정화 시스템:

   • 장비: 가열 및 교반 기능이 있는 PPH/PVDF 복합 반응기, 자동 투약 시스템.

   • 가치: 산세 공정의 정밀성, 안전성 및 환경 보호를 달성하고 화학 정화의 효과와 안정성을 보장합니다.

4. 고순도 물 세척 및 폐수 처리 시스템:

   • 장비: 다단계 역류 세척 탱크, 멤브레인 처리 및 중화 시스템.

   • 가치: 제품의 최종 순도를 보장하는 동시에 환경 요구 사항에 따라 폐수 배출 또는 재활용을 달성합니다.

왜 엘리베이트실리카의 솔루션을 선택해야 할까요?

• 정밀한 공정 설계: 우리는 원료용 TFT-LCD 기판 유리의 특별한 요구 사항을 깊이 이해하고 있으며, 당사의 공정 솔루션은 "저철, 고순도 및 균질성"의 핵심을 직접 겨냥하고 있습니다.

• 장비와 공정의 완벽한 일치: 자체 개발한 핵심 장비는 고순도 재료 가공을 위해 특별히 설계되어 공정 컨셉을 손상 없이 실제 생산성으로 전환할 수 있습니다.

• 안정적인 제품 품질: 자동화된 제어 시스템과 엄격한 품질 관리를 통해 각 배치의 실리카 모래가 Fe₂O₃ ≤ 0.008%의 엄격한 기준을 일관되게 충족할 수 있도록 보장합니다.

• 라인 통합 및 서비스: 원료 테스트, 공정 패키지 설계에서 라인 납품, 시운전 및 기술 교육에 이르기까지 전체 수명 주기 서비스를 제공하여 고객이 걱정할 필요가 없도록 합니다.

글로벌 디스플레이 산업의 치열한 경쟁에서 업스트림 핵심 원료 기술을 습득하는 것이 중요하며 TFT-LCD 기판 유리 용 실리카 모래의 정제 능력은이 분야에서 기업 또는 국가의 경쟁력을 측정하는 중요한 척도이며, ElevateSilica는 성숙한 정제 공정과 안정적인 핵심 장비로 귀하와 협력하고 중국 디스플레이 산업의 기반을 공고히하기 위해 함께 노력할 의향이 있습니다. 엘리베이트실리카는 여러분과 협력하여 중국 디스플레이 산업의 기반을 강화하고 더 선명하고 화려한 시각적 세계를 만드는 데 기여할 것입니다.

귀사의 원료용 TFT-LCD 기판 유리용 실리카 모래 정제를위한 기술 솔루션 및 장비 목록은 언제든지 저희에게 문의하십시오.