전자 등급 고순도 규사 생산 라인 프로젝트 및 시스템

전자 등급 고순도 규사 생산 라인 프로젝트 및 시스템

시스템 개요

이 시스템은 정밀 분쇄, 열 활성화, 심층 화학 정제, 고온 염소 처리 및 초미세 등급화와 같은 고급 공정을 통해 순도 5N-6N(99.999%-99.9999%), 주요 금속 불순물 함량 1ppm 미만의 전자 등급 고순도 실리카 모래를 전문적으로 생산하는 전자 등급 고순도 실리카 모래 생산을 위해 설계된 완벽한 솔루션입니다. 이 제품은 주로 반도체 석영 도가니, 웨이퍼 캐리어, 포토마스크 기판 및 기타 하이엔드 전자 제조 분야에서 사용됩니다.

전체 라인의 세부 공정 흐름

원료 정밀 전처리 시스템
선별된 고급 규암 광석은 컬러 선별기와 X-선 선별기로 이중 선별하여 불순물 함유 입자를 효과적으로 제거하고, 세라믹 라이너 조 크러셔와 콘 크러셔를 다단계 분쇄에 사용하여 원료를 5mm 미만의 입자 크기로 처리하여 전체 공정에서 금속 오염을 방지하고 후속 심층 정제를 위한 기반을 마련합니다.

열 활성화 및 격자 최적화 시스템
분쇄된 재료는 1250°C 고온 전기 가마에서 열처리되어 정밀하게 제어된 담금질 과정을 통해 광물 내에 미세한 균열 네트워크를 유도합니다. 이 과정은 격자 채널을 효과적으로 열고 화학 시약과 불순물 성분 간의 후속 반응의 효율성을 크게 개선하며 내포물을 최대한 노출시켜 불순물을 제거할 수 있습니다.

다중 모드 심층 불순물 제거 시스템

• 고전압 전기 와인 분리: 광물의 전기 전도도 차이에 따라 40kV 고전압 전기 와인 기계를 장착하여 정확한 분리를 달성합니다.

• 초전도 자기 분리 및 정제: 6T 초전도 자기 분리 시스템을 채택하여 철, 코발트, 니켈과 같은 상자성 불순물을 심층적으로 제거합니다.

• 부유 정제: 산성 매질에서 맞춤형 계면활성제를 사용하여 장석, 운모 및 기타 알루미노규산염 광물을 효율적으로 분리합니다.

화학 심층 정제 시스템
테프론 라이닝 반응기에서 90°C에서 72시간 동안 고순도 혼합 산으로 표면 개재물과 격자 채널의 금속 불순물을 완전히 용해하고, 18메가 옴 초순수를 사용하여 15단계의 역류 헹굼으로 산 라디칼 이온의 잔류량이 0.05ppm 미만이 되도록 합니다.

고온 염소 처리 정화 프로세스
1300°C 고순도 질소 환경에서 전자 등급 염소를 통과시켜 알칼리 금속, 전이 금속 및 기타 완고한 불순물을 기체 염화물 휘발 및 제거하여 우라늄, 토륨 및 기타 방사성 원소의 제거율이 99.95% 이상에 도달하고 주요 금속 불순물의 함량은 0.1-0.5ppm으로 안정적으로 제어할 수 있습니다.

초미세 등급 및 완제품 가공
입자 크기 분포를 실시간으로 모니터링하는 온라인 레이저 입도 측정기가 장착된 다단계 터빈 공기 분류기를 통해 1~20μm의 입자 크기를 정확하게 제어하고, 완제품은 클래스 100 청정 환경에서 질소 충전 패키지로 포장하여 보관 및 운송 중에 제품이 초고순도를 유지할 수 있도록 합니다.

시스템 핵심 이점

궁극의 순도 보장 시스템
열 활성화, 심층 화학 정제, 고온 염소화의 세 가지 핵심 기술을 통합하여 완벽한 정제 체인을 구축하여 제품의 순도가 5N-6N의 표준에 안정적으로 도달하고 주요 금속 불순물의 함량이 0.1-1ppm 범위 내에서 제어되도록 보장합니다.

정밀한 입자 크기 제어 기술
기류 분류와 원심 분류를 결합한 다단계 분류 공정을 채택하여 제품 입자 크기 분포 농도 D90/D10≤1.5로 전자 재료 분야의 분말 일관성에 대한 극한의 요구 사항을 충족합니다.

전 공정에서 깨끗한 생산
핵심 공정은 클래스 100 청정 환경에서 완료되며 장비는 고순도 석영, PTFE 및 기타 불활성 재료로 만들어져 생산 공정에서 2차 오염의 위험을 완전히 제거합니다.

지능형 품질 추적성
MES 생산 실행 시스템을 도입하여 원자재 배치, 공정 매개 변수, 품질 데이터의 완전한 추적을 구현하고 완벽한 품질 파일을 구축하여 각 제품 배치를 원래 생산 데이터로 추적 할 수 있도록합니다.

프로젝트 구성

청정 생산 구역 계획
원료 전처리 영역은 클래스 10,000 청정 표준을 채택하고 화학 정화 및 완제품 처리 영역은 클래스 100 청정 사양을 수행하며 각 영역은 에어 샤워 실과 재료 이송 창으로 제어되어 청결 등급을 달성합니다.

전문 장비 구성 프로그램

• 파쇄 섹션: 지르코니아 세라믹 라이너 파쇄 장비를 갖추고 있어 금속 오염을 완전히 방지합니다.

• 고온 처리: 온도 제어 정확도가 ±1°C인 실리콘 카본 로드 전기 가마를 채택했습니다.

• 분류 시스템: 고정밀 터빈 분류기 장착, 분류 효율 ≥90%.

• 테스트 센터 : ICP-MS, GD-MS 등과 같은 고정밀 분석 장비를 갖추고 있습니다.

환경 보호 및 안전 시스템
산성 폐가스는 3단계 흡수 처리 후 기준에 맞게 배출하고 염소화 테일 가스는 특수 처리 시스템을 통해 무해하게 처리하며, 화학 비상 처리 장치를 설치하여 생산 안전을 종합적으로 보장합니다.

극한의 정제 공정과 청정 생산 시스템의 완벽한 조합을 통해 전자 산업에 안정적인 품질과 우수한 성능의 고순도 규사 제품을 제공하고 반도체, 집적 회로 및 기타 전략적 신흥 산업의 발전을 돕고 있습니다.