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광통신 반도체용 실리콘 샌드 가공 공장 및 생산 라인

당사는 광통신 및 반도체 산업에 정밀 선별, 열 활성화, 초전도 자기 분리, 심층 산세 및 고온 염소 처리 등을 통해 순도를 5N~6N까지 높이고 주요 불순물 함량을 1ppm 이하로 정제하는 초고순도 석영 모래 토탈 솔루션을 전문적으로 제공하고 있습니다.

 

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제품 문의

광통신 반도체 실리카 모래 가공 공장 및 생산 라인


시스템 개요

광통신 반도체 규사 가공 공장은 광통신 및 반도체 산업의 초고순도 규사 수요를 충족하기 위해 설계된 토탈 솔루션입니다. 정밀 분쇄, 다단계 정제, 고온 처리, 초미세 등급화 등 정교한 공정을 통해 광섬유 프리폼, 반도체 석영 도가니, 웨이퍼 캐리어 등 하이엔드 제조 분야에 적합한 순도 5N-6N(99.999%-99.9999%), 주요 불순물 함량 1ppm 이하의 초고순도 규사를 전문적으로 생산합니다.


전체 공장의 세부 공정 흐름

원료 정밀 전처리 섹션
고급 석영광석을 컬러 선별기와 레이저 선별 장비로 정밀 선별하여 불순물 함유 입자를 제거하고, 이후 조 크러셔와 콘 크러셔의 다단 파쇄를 통해 원료를 10mm 이하의 입자 크기로 가공하여 이후 해리 및 정제를 위한 이상적인 조건을 조성합니다.

열 활성화 및 심층 해리 섹션
분쇄된 물질은 1200°C 고온 소성기에서 열처리되며, 물 담금질을 통해 내부 미세 균열의 생성을 유도하여 광물 해리 정도를 최적화하고 이 과정을 통해 후속 화학 정제의 반응 효율과 균질성을 크게 향상시킵니다.

다중 모드 심층 오염 제거 섹션

  • 고전압 전기 분리: 20kV 고전압 전기장을 사용하여 전기 전도도의 차이에 따라 공생 광물을 정밀하게 분리합니다.

  • 초전도 자기 분리 및 정제: 5T 이상의 초전도 자기 분리기를 채택하여 철, 크롬, 니켈 등과 같은 상자성 불순물을 심층적으로 제거합니다.

  • 부유 정제: 산성 매질에서 맞춤형 수집기를 사용하여 장석, 운모 및 기타 알루미노규산염 광물을 효과적으로 분리합니다.

화학 심층 정제 시스템
재료는 85°C의 밀폐된 고순도 반응기에서 48시간 동안 혼합 산으로 침출되어 표면 내포물과 격자 채널 불순물을 완전히 용해하고, 완전 자동 세척 시스템을 사용하여 12단계 역류 세척을 완료하여 산 라디칼 이온의 잔류량이 0.1ppm 미만이 되도록 합니다.

고온 염소화 정화 공정
고순도 염소 가스를 1250°C의 특정 분위기 아래 통과시켜 알칼리 금속, 전이 금속 및 기타 완고한 불순물을 기체 염화물로 만들어 휘발 및 제거하며, 이 공정의 우라늄, 토륨 및 기타 방사성 원소에 대한 제거율은 99.9% 이상에 달할 수 있습니다.

초미세 등급 분류 및 완제품 처리
다단계 기류 분류기는 0.5-45μm의 입자 크기를 정밀하게 제어하고 온라인 레이저 입자 크기 측정기를 장착하여 입자 크기 분포를 실시간으로 모니터링하며, 완제품은 1,000단계의 깨끗한 환경에서 진공 포장되어 운송 및 보관 과정에서 오염이 전혀 발생하지 않도록 보장합니다.


전체 플랜트 시스템의 핵심 이점

궁극의 순도 보장 시스템
물리적 선별, 화학적 심층 정제 및 고온 염소화의 세 가지 핵심 기술을 통합하여 완벽한 정화 체인을 구축하여 제품의 순도가 5N-6N 표준에 안정적으로 도달하고 주요 금속 불순물의 함량이 0.1-1ppm 범위 내에서 제어되도록 보장합니다.

정밀한 입자 크기 제어 기술
기류 분류와 원심 분류를 결합한 다단계 분류 공정을 채택하여 제품 입자 크기 분포 농도 D90/D10≤1.8로 광통신 및 반도체 분야의 분말 일관성에 대한 극한의 요구 사항을 충족합니다.

전 공정에서 깨끗한 생산
핵심 공정은 1,000등급의 깨끗한 환경에서 완료되며, 장비는 고순도 석영, PTFE 및 기타 불활성 재료로 만들어져 생산 공정에서 2차 오염의 위험을 완전히 제거합니다.

지능형 품질 추적성
MES 생산 실행 시스템 도입, 원자재, 공정 매개 변수, 추적성 전반에 걸친 품질 데이터 구현, 완벽한 품질 파일 구축으로 각 제품 배치를 원래 생산 데이터로 추적할 수 있습니다.


전체 공장 계획 및 전문 구성

깨끗한 생산 구역 계획
원료 전처리 구역은 클래스 10,000 청정 표준을 채택하고 화학 정화 및 완제품 가공 구역은 클래스 1,000 청정 사양을 수행하며 각 구역은 에어 샤워 실과 재료 이송 창으로 제어되어 청정도 등급을 달성합니다.

전문 장비 구성 프로그램

  • 파쇄 섹션: 금속 오염을 방지하기 위해 세라믹 라이너 파쇄 장비를 갖추고 있습니다.

  • 고온 처리: 실리콘 몰리브덴 막대 전기 가마, 온도 제어 정밀도 ±2°C 채택.

  • 분류 시스템 : 고정밀 터빈 분류기 장착, 분류 효율 ≥85 %.

  • 테스트 센터 : ICP-MS 및 GD-MS와 같은 고정밀 분석 장비를 갖추고 있습니다.

환경 보호 및 안전 시스템
산성 폐가스는 3단계 흡수 처리 후 기준에 맞게 배출하고 염소화 꼬리 가스는 특수 처리 시스템을 통해 무해하게 처리하며 비상 처리 장치를 설치하여 화학 물질 사용의 안전성을 종합적으로 보장합니다.


극한의 정제 공정과 청정 생산 시스템의 완벽한 조합을 통해 광통신 및 반도체 산업에 안정적인 품질과 우수한 성능을 갖춘 초고순도 규사 제품을 제공하고 5G 통신, 집적 회로 및 기타 전략적 신흥 산업의 발전을 지원합니다.

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